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Plateforme technologique de caractérisation des matériaux

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MEB FEG ZEISS GeminiSEM 500

Microscope électronique à balayage à haute résolution

Spécificité de la machine
  • Canon à effet de champ (FEG) de type Schottky
  • Mode haut vide (HV) ou mode pression controlée (VP/NanoVP/XVP)
  • Tension d’accélération : 0.02 à 30 kV
  • Résolution en électrons secondaires :
    • 0,6 nm à 15kV
    • 1,1 nm à 1kV

Imagerie en mode haut vide
  • en électrons secondaires (In-Lens / Everhart-Thornley )
  • en électrons rétrodiffusés (EsB / QBSD)
  • en électrons transmis (STEM)

Imagerie en mode pression controlée
  • en électrons secondaires (suivant la pression : VPSE et/ou In-Lens )
  • en électrons rétrodiffusés (suivant la pression: VPSD et/ou EsB)

Équipements
  • Système de microanalyse X à sélection d'énergie (EDS) avec un détecteur SDD (EDAX OCTANE ELITE 25 avec fenêtre céramique Si3N4 - 60mm²)
  • Système  d'analyse EBSD avec caméra CCD numérique (EDAX HIKARI SUPER) et logiciels OIM et TEAM

In-situ
  • Plasma cleaner
  • Nano indentation
  • Traction à l'ambiante et à chaud, à plat ou tiltée à 70°

mise à jour le 31 mars 2020

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Tél. : +33 (0)4 76 82 66 03  
 

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