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Plateforme technologique de caractérisation des matériaux

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Diffractomètre SIEMENS D5000 (Bruker) dédié réflectométrie X


La réflectométrie X est bien adaptée à l'étude des couches minces homogènes, amorphes ou cristallisées.
Elle permet de déterminer la densité de la couche, son épaisseur (de quelques nanomètres à environ 200nm) ou encore la rugosité de surface et d'interface.

La réflectométrie X utilise le fait que les matériaux, éclairés par un faisceau de rayons X, ont un indice optique inférieur à 1. Sous des incidences très faibles (0.2 à 1° en 2théta) il y a donc réflexion totale. Lorsque l'incidence augmente, au-delà d'un angle critique, le faisceau commence à pénétrer dans le matériau. Après avoir pénétré dans le matériau, il y a réflexion aux interfaces conduisant à des interférences constructives ou destructives. L'épaisseur des couches est déterminée à partir de la distance inter-franges.

Configuration du diffractomètre
  • Goniomètre 2 cercles
  • Miroir parabolique 1D longueur d’onde Ka moyen du cuivre
  • Platine Z et Tilt manuels
  • Support aspirant pour échantillon
  • Logiciels d'exploitation :
    • Leptos (version 6.03)
    • XrdCommander (version 2.4.1) pour l'acquisition des données.

mise à jour le 14 février 2017

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